石塚大使によるKEKとGTUの覚書調印式での挨拶
令和6年10月15日
10月15日、石塚英樹大使はジョージア技術大学で開催された高エネルギー加速器研究機構(KEK)とジョージア技術大学(GTU)の覚書の調印式に出席し、来賓挨拶を行いました。両機関は2014年から共同研究等を行っており、同調印式を機に、高エネルギー物理学分野における研究交流の活性化に向けてさらに連携していくとのことです。
冒頭の挨拶で、石塚大使は「この調印式は日本とジョージアの友好関係の推進の上でもたいへん喜ばしい。今後、日本とジョージアの学術交流が一層増えることを願っている。大使館としても日本とジョージアとの学術交流を支える考えであり、GTUの学生にも日本の国費留学生制度(MEXT)に積極的に参加してもらいたい」と述べました。
冒頭の挨拶で、石塚大使は「この調印式は日本とジョージアの友好関係の推進の上でもたいへん喜ばしい。今後、日本とジョージアの学術交流が一層増えることを願っている。大使館としても日本とジョージアとの学術交流を支える考えであり、GTUの学生にも日本の国費留学生制度(MEXT)に積極的に参加してもらいたい」と述べました。
